三星、海力士、美光三大內(nèi)存巨頭掌握了全球95%的市場(chǎng)份額，他們的一舉一動(dòng)都有可能影響內(nèi)存價(jià)格走向，現(xiàn)在國(guó)產(chǎn)內(nèi)存正在奮起直追，消息稱合肥長(zhǎng)鑫將在Q2季度出樣17nm工藝的DDR內(nèi)存，并尋求擴(kuò)大產(chǎn)能。

來(lái)自臺(tái)灣媒體的消息稱，合肥長(zhǎng)鑫的17nm工藝DDR內(nèi)存芯片良率已經(jīng)達(dá)到了40%，預(yù)計(jì)在Q2季度出樣給客戶。

40%的良率現(xiàn)在來(lái)看不算高，不過(guò)長(zhǎng)鑫會(huì)持續(xù)改進(jìn)良率，并計(jì)劃在今年下半年將內(nèi)存月產(chǎn)能提升到6到8萬(wàn)片12英寸晶圓。

此前TrendForce預(yù)測(cè)，2021年底全球內(nèi)存產(chǎn)能將達(dá)到150萬(wàn)晶圓/月，三星產(chǎn)能超過(guò)55.5萬(wàn)晶圓/月，SK海力士是36萬(wàn)片晶圓/月，美光也有35.5萬(wàn)晶圓/月。

此外，在技術(shù)水平上，三星已經(jīng)量產(chǎn)了14nm EUV工藝的LPDDR5內(nèi)存，國(guó)產(chǎn)17nm工藝還有一兩代的技術(shù)差距，不過(guò)這并不算什么大問(wèn)題，國(guó)產(chǎn)內(nèi)存的主要目標(biāo)依然是提高良率，加快產(chǎn)能提升。（作者：憲瑞）